反射式数字全息显微镜 DHM®
反射式数字全息显微镜DHM®简介
反射式数字全息显微镜DHM®系列(DHM-R1000, DHM-R2100 和 DHM-R2200) 通过收集样品表面的反射信号进行测量，因此在探测反射或部分反射的样品时使用较为理想。此型号的全息显微镜能够探测反射率低至1%的样品，因此作为光学轮廓仪广泛适用于各种样品。
DHM®使用便利，除了科研应用，得益于其高图像采集率，DHM®还能作为常规快速检测装备适用于工业自动质量检测。
目前我们提供三种配置的系统，主要是装配不同数量的激光源：
- R-1000 系列: 单波长激光源
- R-2100 系列: 双波长激光源
- R-2200 系列: 三波长激光源
反射式DHM®兼容所有可选配件：包括频闪模块、后期分析软件MEMS analysis tool 和Reflectometry analysis tool。每个DHM®可以灵活选择装配模式，例如装配在默认结构台，或者只选择DHM®探测头，之后可以集成在其他设备或者生产线上。DHM®兼容多种电动样品台。
Lyncée Tec 自从DHM®发明之日起即开始不断追求技术创新，提高系统系能。发展到今天，DHM®已经能满足您任何定制或OEM需求。
R1000 系列
DHM®-R1000系列配置单波长激光源，可以为您的样品提供实时三维检测，拥有亚纳米级分辨率，动态可测垂直台阶高度为333nm，而对于连续表面动态可测高度则达到了200µm。R1000系列是反射式DHM®的最基本配置，性价比优势突出，使用极其便利。
适用范围包括平滑表面、样品形貌、以及不超过333nm陡直台阶等。
R2100 系列
DHM®-R2100是按照能够同时使用双波长激光源测试的规格设计的，拥有亚纳米级分辨率，动态可测垂直台阶高度达到了2.1 μm，对于连续表面动态可测高度同样为200 µm。
两个激光源拥有各自不同的参考光光路，但共用物光光路，主要优势在于：
- 可测垂直台阶高度增加到了2.1 μm
- 可以自由切换使用单、双激光源进行实时测试
- Mapping算法保证在可测垂直台阶高度范围内的亚纳米测量精度
DHM®-R2100家族系列能够使用相机同时记录两束光分别产生的干涉条纹并投射到同一幅全息图上，之后还能对两束光分别进行数字重建。 两束光源产生的合成波长使得动态可测垂直台阶扩展到了2.1 μm，这些过程均在视频速率下完成。
使用双光源系统与使用单光源系统相比一样便利。视不同被测样品情况，使用者可以自由切换使用单/双光源模式以获取不同可测台阶范围。
另外，通过结合单光源与合成光源的测量数据，在单光源模式下的亚纳米垂直测量精度能够利用功能强大的Mapping算法适用到双光源模式。
DHM® 双光源的原理
R2100 系列提供双光源测试模式，光源 λ_1 和光源λ_2将产生一个波长为Λ的合成光源。同时合成光源测试，在保持亚纳米级精度的同时，将动态可测垂直台阶高度增加到了2.1 μm，而对于连续表面动态可测高度同样为200 µm。合成光源波长计算公式如下：
Λ= (λ1 x λ2) / |λ1 – λ2| , Λ≫λ1, λ2
当然，双光源系统的两个光源也可以各自独立单独使用。
R2200 系列
DHM®-R2200 是按照三波长激光源的规格设计的，拥有亚纳米级分辨率，动态可测垂直台阶高度达到了12 μm，对于连续表面动态可测高度同样为200 µm。
DHM®-R2200 系列全息显微镜在实时测量方面达到了一个全新的高度。创新的光路设置包括了共用的物光光路以满足三光源配置。三个光源允许使用两组不同的双光源组合，也就是说有两个不同波长的合成光源供选择：
- 动态可测垂直台阶高度范围增加到了12 μm
- 可以自由切换使用单、双激光源进行实时测试
- Mapping算法保证在可测垂直台阶高度范围内的亚纳米测量精度
- 使用双光源测量与单光源同样的便利性
DHM®-R2200 系列除了拥有三光源，在其他方面与DHM®-R2100系列有着同样的特点和功能。 DHM®-R2200 系列能够使用相机同时记录两束光分别产生的干涉条纹并投射到同一幅全息图上，之后还能对两束光分别进行数字重建。 两束光源产生的合成波长使得动态可测垂直台阶扩展到了12 μm，这些过程均在视频速率下完成。
使用三光源系统与使用单光源系统相比一样便利。视不同被测样品情况，使用者可以自由切换使用单/双光源模式以获取不同可测台阶范围。
DHM®-R2200系列配置的第三光源用来与另外两个光源结合使用。 因此在双光源使用模式下拥有一个短合成光波长和长合成光波长，进一步拓宽了动态测试范围。DHM®-R2200系列的两种合成波长分别为6 μm 和30 μm，对于动态可测垂直台阶高度分别为2.1 μm和12 μm。
另外，通过结合单光源与合成光源的测量数据，在单光源模式下的亚纳米垂直测量精度能够利用功能强大的Mapping算法适用到双光源模式。
由于测量和图像抓取速率快，DHM® 可以有效避免环境振动对测量带来的影响，防止出现图像模糊的情况。实时显示的三维动态形貌保证了DHM® 使用的便利高效，而测量可以通过垂直相干扫描模式增加到厘米量级。
DHM® 双光源的原理
R2200 系列提供两组双光源测试模式，光源 λ_1 和光源λ_2将产生一个长合成波长Λ光源，在保持亚纳米级精度的同时，将动态可测垂直台阶高度增加到了12 μm，而对于连续表面动态可测高度同样为200 µm。另外，光源 λ_1 和光源λ_3也可以合成一个短合成波长Λ光源，在保持亚纳米级精度的同时，将动态可测垂直台阶高度增加到了2.1 μm。合成光源波长计算公式如下：
Λ= (λ1 x λ2) / |λ1 – λ2| , Λ≫λ1, λ2
or
Λ= (λ1 x λ3) / |λ1 – λ3| , Λ≫λ1, λ3
Mapping算法保证在可测垂直台阶高度范围内的亚纳米测量精度，每个光源也可以各自单独使用。
R系列参数比较
查看具体参数请下载产品规格书 。
三种系列反射式 DHM®比较
在单光源模式下所有型号反射式DHM® 拥有相同的测量精度和功能。
| R1000 | R2100 | R2200 | |
| 配置 | 单激光源 | 双激光源 | 三激光源 |
| 特点 | 单波长 | 短合成波长 | 短合成波长、长合成波长 |
| 测量模式 | 单波长测量 | 单波长和双波长测量 | 单波长和双波长测量 |
| 精度 (定义为对单一像素点做30次测量后取时域标准差) |
0.15 nm | 0.15 / 3.0 nm * | 20 nm |
| 垂直分辨率 (定义为两倍于精度) |
0.30 nm | 0.30 / 6.0 nm * | 40 nm |
| 可重复性 (as demonstrated by taking the one sigma Rq value of 30 repeatability measurements on SiC reference mirror) |
0.01 nm | 0.01 / 0.1 nm * | 0.5 nm |
| 动态可测垂直高度(无须扫描情况下) | 对于连续结构最高可达 200 μm | 对于连续结构最高可达 200 μm | 对于连续结构最高可达 200 μm |
| 动态可测台阶高度 (由测量波长和光源决定) |
最高可达333 nm | 最高可达2.1 μm | 最高可达 12 μm |
* 使用或者不使用但波长mapping功能
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